HSXではCXS(=CXRS/CHERS)を用いて $C^{+6}$ 計測を行っているが，Pfirsch–Schlüter（PS）流が存在するので磁気面内でフローが一定ではない．PS流（ $v_{PS}=hB\frac{d\phi}{d\psi}$ ）による影響を除いたbootstrap流（平行方向の平均流） $v_{BS}$ を求めている．

QHS配位では $v_{BS}\sim 10$ km/s， $-d\phi/d\psi\sim 25$ kV/Wb程度であり，Mirror配位では $v_{BS}\sim 25$ km/s， $-d\phi/d\psi\sim 25$ kV/Wb程度という結果が得られた．これらの値はQHS配位においては(計測値 $v_{BS}$ )<(理論値)であり，Mirror配位においては(計測値 $v_{BS}$ )>(理論値)である．Mirror配位の場合は実験値と比較的よい一致を示すが，QHSでは数倍の差がある．また，径電場においても乖離が見られる．

QHSとMirrorの差について．QHSでは(1,4)方向の粘性が小さいのでフローが大きく，Mirror配位では粘性が大きいのでフローが小さくなるという予測があったが，反対の実験結果が得られた．どちらの実験も径電場・ECHの入射パワーは同程度である．中心圧力はQHSの方がMirrorよりも2倍程度大きいが，これはQHSの方がフローが大きくなることを意味し，実験結果と反対の傾向を意味する．

これらの結果を説明する可能性があるものとして，ヘリカルリップルによる輸送が挙げられている．実効ヘリカルリップルが大きい（Mirror配位）ときnon-ambipolar currentが重要になってくる．また，QHSではnon-neoclassical processが支配的な領域が存在するという試算がある．